突然猛拉！光刻机，大消息！

（原标题：突然猛拉！光刻机，大消息！）

国产光刻机突传重磅。

12月25日，据中国政府采购网公示，上海微电子装备（集团）股份有限公司（以下简称“上海微电子”）中标zycgr22011903采购步进扫描式光刻机项目，设备数量为一台。

受此消息刺激，张江高科股价直线猛拉，尾盘一度暴涨超8%。

今年以来，光刻机国产化不断提速。有券商机构认为，光刻机技术的突破将带动上游材料、精密机械等配套产业升级，加速光刻胶、光学部件等“卡脖子”材料的国产化进程。

光刻机大消息

12月25日，据中国政府采购网公示，上海微电子中标zycgr22011903采购步进扫描式光刻机项目，设备数量为一台，成交金额10999.985万元。

天眼查信息显示，上海微电子成立于2002年，经营范围包含：半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务等，股东包括上海电气控股集团有限公司、上海科技创业投资有限公司、上海光微青合投资中心（有限合伙）、上海张江浩成创业投资有限公司等。其中，上海张江浩成创业投资有限公司由A股公司张江高科(600895)全资持有。

受此消息刺激，今日午后，张江高科股价直线拉升，一度暴涨超8%，截至收盘，涨幅仍达4.81%。

据了解，步进扫描光刻是一种混合光刻技术，结合了扫描投影光刻和分步重复光刻的优势。该技术通过动态扫描方式同步移动掩膜版和晶圆，标准曝光尺寸为26mm×33 mm，可增大曝光场并一次曝光多个芯片，其具备整个扫描过程的实时聚焦调节能力，适用于0.25μm以下的制造工艺，尤其在0.18μm节点及更先进工艺中广泛应用。

根据企查查信息，《单一来源采购专家论证意见表》显示，招标方为科学技术部的LGGJ实验室，项目金额11300万元。

专家认证意见显示，步进扫描式光刻机具备高分辨率光学成像能力（分辨率≤110nm）和优异的套刻精度（≤15nm），可支持微米乃至亚微米级结构的高均匀性、高稳定性加工。其采用的扫描式曝光方式在确保加工精度的同时，兼具高效率与大尺寸加工优势，工艺一致性和稳定性突出，能够充分满足高密度神经电极阵列对极细线宽和高对准精度的苛刻工艺要求。

国产化不断提速

在半导体装备领域，光刻机始终处于核心关键设备的地位。目前该市场长期由ASML、尼康和佳能等国际厂商主导。上海微电子作为国内目前唯一具备先进前道光刻机研发与制造能力的企业，其最新机型已可实现分辨率≤110nm、套刻精度≤15nm的性能指标，成为国产高端光刻装备的重要突破。

公司官网信息显示，上海微电子主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。

上海微电子的光刻设备主要包括，SSX600系列步进光刻机、SSB500系列步进光刻机、SSB300系列步进光刻机、SSB200小Mask系列曝光机、SSB200大Mask系列曝光机。

其中，SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求，可用于8寸产线或12寸产线。

今年以来，光刻机国产化不断提速。今年11月25日，上海芯上微装科技股份有限公司（AMIES）传出捷报，公司自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200）正式完成出厂调试与验收，启程发往客户现场，标志着我国在高端半导体光刻设备领域再次实现关键突破。

华鑫证券认为，光刻机技术的突破将带动上游材料、精密机械等配套产业升级，加速光刻胶、光学部件等“卡脖子”材料的国产化进程，形成“龙头带动、多点突破”的产业升级格局。

国金证券表示，半导体设备是半导体产业链的基石，存储扩产与自主可控共振，国产替代空间广阔。半导体设备位于产业链上游，是支撑芯片制造与封测的核心产业。随着AI大模型驱动存储技术向3D化演进，叠加长鑫、长存等国内存储大厂扩产项目落地，国产半导体设备产业链有望迎来新一轮高速增长机遇。

排版：汪云鹏

校对：彭其华