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京东方A申请薄膜晶体管和显示面板专利,专利技术能确保薄膜晶体管具有良好的特性均匀性和稳定性

来源:金融界 作者:情报员 2023-12-05 17:50:22
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(原标题:京东方A申请薄膜晶体管和显示面板专利,专利技术能确保薄膜晶体管具有良好的特性均匀性和稳定性)

金融界2023年12月5日消息,据国家知识产权局公告,京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“薄膜晶体管和显示面板“,公开号CN117178655A,申请日期为2022年3月。

专利摘要显示,本公开提供一种薄膜晶体管和显示面板,属于显示技术领域。本公开提供的一种薄膜晶体管包括:基底和设置在基底上的有源层和栅电极;其中,有源层包括第一部分和第二部分,第二部分的导电率大于第一部分的导电率;栅电极在基底上的正投影覆盖第一部分在基底上的正投影,且栅电极在基底上的正投影与第二部分在基底上的正投影无重叠区域;第一部分包括多个第一子部分,任一第一子部分在有源层的走向上的两侧均与第二部分相连,其能够确保薄膜晶体管具有良好的特性均匀性和稳定性。

本文源自:金融界

作者:情报员

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