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京东方A申请双相结构材料专利，能够提高量子点对光的吸收

来源：金融界

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作者：情报员 2023-12-07 10:29:52

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（原标题：京东方A申请双相结构材料专利，能够提高量子点对光的吸收）

金融界2023年12月7日消息，据国家知识产权局公告，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“一种用于量子点发光器件的双相结构材料及其制备方法“，公开号CN117177598A，申请日期为2023年9月。

专利摘要显示，本申请提供了一种用于量子点发光器件的双相结构材料及其制备方法，双相结构材料包括第一相和第二相，第一相和第二相的折射率差值为0.05至0.6；双相结构材料包括树脂材料，树脂材料包括丙烯酸树脂、环氧树脂、聚酰亚胺或硅氧烷中的至少一种。双相结构材料中的两相折射率存在差异，可以提高对光的散射效果，进而能够提高量子点对光的吸收。同时可以代替现有技术中添加TiO。

本文源自：金融界

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