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京东方A申请发光材料专利，提供高空穴迁移率和高电子迁移率

来源：金融界

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作者：情报员 2023-12-15 21:19:47

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（原标题：京东方A申请发光材料专利，提供高空穴迁移率和高电子迁移率）

金融界2023年12月15日消息，据国家知识产权局公告，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“发光材料、发光器件、显示装置“，公开号CN117229771A，申请日期为2023年9月。

专利摘要显示，本申请涉及一种发光材料，所述发光材料包括含量顺次降低的H1、H2、D三种化合物，所述H1的空穴迁移率高于电子迁移率，所述H2的电子迁移率高于空穴迁移率，所述H1和H2均选自具有如下分子结构通式的分子中的任意一种。

本文源自：金融界

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