京东方A申请光刻设备专利，可实现液态光敏材料的光固化_财经频道

（原标题：京东方A申请光刻设备专利，可实现液态光敏材料的光固化）

金融界2023年12月23日消息，据国家知识产权局公告，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“光刻设备和光刻方法“，公开号CN117270318A，申请日期为2023年9月。

专利摘要显示，本发明涉及一种光刻设备，包括：光敏材料槽，用于容纳液态的光敏材料；光源，包括沿第一方向并排设置的至少2个阵列光头，每个阵列光头包括沿第二方向间隔设置的多个LED发光器件，以及设置于LED发光器件出光侧的微透镜阵列，微透镜阵列被配置为使至少2个阵列光头的光线的聚焦位置在第一工作模式下重合，或使得至少2个阵列光头的光线聚焦位置在第二工作模式下不重合，第一方向和第二方向均与液态的光敏材料的液面相平行，第一方向和第二方向相垂直；驱动结构，用于驱动光敏材料槽和/或光源，以使得光敏材料槽和光源相对移动，以进行液态光敏材料的光固化。本发明还涉及一种光刻方法。