京东方A申请缺陷检测模型专利，可实现针对具有相似已知缺陷的不同产品图像提取出相似度大于第一预设相似度的不同已知缺陷特征_财经频道

（原标题：京东方A申请缺陷检测模型专利，可实现针对具有相似已知缺陷的不同产品图像提取出相似度大于第一预设相似度的不同已知缺陷特征）

金融界2023年12月27日消息，据国家知识产权局公告，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“一种缺陷检测模型的迁移方法、装置、设备及存储介质“，公开号CN117292214A，申请日期为2023年9月。

专利摘要显示，本发明公开了一种缺陷检测模型的迁移方法、装置、设备及存储介质。所述方法包括：获取预先训练的缺陷特征提取模型，以及缺陷特征集合；缺陷特征提取模型用于，针对具有相似已知缺陷的不同产品图像，提取出相似度大于第一预设相似度的不同已知缺陷特征；缺陷特征集合中包括，缺陷特征提取模型提取出的已知缺陷特征；将具有新缺陷的新缺陷产品图像输入缺陷特征提取模型，得到新缺陷特征；在缺陷特征集合中，针对与新缺陷特征的相似度满足预设相似度条件的已知缺陷特征，将对应已知缺陷确定为备选缺陷；针对所确定的备选缺陷对应的缺陷检测模型，利用新缺陷产品图像进行迁移训练，得到用于检测输入的产品图像是否具有新缺陷的新缺陷检测模型。

本文源自：金融界

作者：情报员

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