京东方A取得掩膜版及其制作方法、清洁装置、清洁方法专利，获得高PPI、高可靠性的掩膜版_财经频道

（原标题：京东方A取得掩膜版及其制作方法、清洁装置、清洁方法专利，获得高PPI、高可靠性的掩膜版）

金融界2023年12月28日消息，据国家知识产权局公告，京东方科技集团股份有限公司取得一项名为“掩膜版及其制作方法、清洁装置、清洁方法“，授权公告号CN115216729B，申请日期为2022年7月。

专利摘要显示，本申请实施例提供一种掩膜版及其制作方法、清洁装置、清洁方法。所述掩膜版包括设有避让通孔的承载基板，所述避让通孔沿所述掩膜版的厚度方向贯穿所述承载基板，以及固定至所述承载基板一侧的硅基膜板，所述硅基膜板设有一个以上的蒸镀开口。其中，所述避让通孔至少暴露出一个所述蒸镀开口。利用承载基板实现对硅基膜板的固定，再结合硅基膜板自身具有较高的刚度等特性，以获得高PPI、高可靠性的掩膜版。