京东方A申请蒸镀装置专利，提高膜厚的均匀性_财经频道

（原标题：京东方A申请蒸镀装置专利，提高膜厚的均匀性）

金融界2024年1月6日消息，据国家知识产权局公告，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“蒸镀装置“，公开号CN117344273A，申请日期为2023年11月。

专利摘要显示，本申请涉及一种蒸镀装置。包括蒸发源、源喷嘴和导向机构。蒸发源用于蒸发蒸镀材料。源喷嘴设置在所述蒸发源喷嘴上，用于决定所述蒸镀材料的喷射方向。导向机构设置于所述源喷嘴上，用于对所述蒸镀材料的喷射方向进行导向。所述源喷嘴的喷射方向为第一方向，所述导向机构的导向方向为第二方向，所述第一方向与所述第二方向之间具有夹角。在多种材料共蒸的工序中，通过导向机构对不同蒸镀材料流向的引导，使得多种蒸镀材料在基板上所形成的厚度相接近，从而提高膜厚的均匀性。