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恒永达申请磁性磨粒流抛光系统及方法专利,能够改变抛光效果

来源:金融界 作者:情报员 2024-01-13 14:44:50
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(原标题:恒永达申请磁性磨粒流抛光系统及方法专利,能够改变抛光效果)

金融界2024年1月13日消息,据国家知识产权局公告,深圳市恒永达科技股份有限公司申请一项名为“磁性磨粒流抛光系统及方法“,公开号CN117381548A,申请日期为2023年11月。

专利摘要显示,本申请涉及一种磁性磨粒流抛光系统及方法,属于抛光技术领域,该磁性磨粒流抛光系统包括储液池、入口管道、出口管道、泵体、回流管道和磁吸装置,入口管道连通储液池和待抛光通道的入口端,出口管道连通储液池和待抛光通道的出口端,回流管道连通入口管道和储液池,磁吸装置安装在回流管道的外部,磁吸装置用于将回流管道内磨粒流体中的磁性磨粒吸附在回流管道的内壁面上,以调节入口管道内的磨粒流体中的磁性磨粒的数量。本申请提供的磁性磨粒流抛光系统及方法,磁性磨粒流抛光系统可以将磁性磨粒吸附在回流管道上,来调节入口管道内的磨粒流体中的磁性磨粒数量,能够减小磨粒流体堵塞整个系统通路的可能,还能够改变抛光效果。

本文源自:金融界

作者:情报员

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