(原标题:敏芯股份申请微流道芯片制造方法专利,增强了微流道的结构强度)
金融界2024年1月13日消息,据国家知识产权局公告,苏州敏芯微电子技术股份有限公司申请一项名为“一种微流道芯片的制造方法”,公开号CN117380295A,申请日期为2023年12月。
专利摘要显示,本发明提供了一种微流道芯片的制造方法,方法包括:提供包括多个微流道芯片的半导体晶片,每个微流道芯片包括层叠设置的保护层和结构层,结构层具有微流道结构;在相邻两个微流道芯片之间的切割道位置,对半导体晶片的保护层进行包括激光诱导深度刻蚀技术、或激光直写技术的第一划片工艺,以去除部分厚度的保护层形成第一子凹槽;在第一子凹槽处进行包括干法刻蚀技术的第二划片工艺,去除剩余厚度的保护层形成第二子凹槽,以及结合深硅刻蚀工艺刻穿结构层,以得到分离的微流道芯片。本发明最大程度减少了碎渣颗粒的产生,且保证切割道上下近似平直、宽度也基本一致,增强了微流道的结构强度,提高了微流道芯片使用寿命。
本文源自:金融界
作者:情报员