(原标题:原子高科取得CN112967830B专利,使制得的β平面源放射性粒子吸附牢固,使用效果更佳、寿命更长)
金融界2024年1月17日消息,据国家知识产权局公告,原子高科股份有限公司取得一项名为“一种β平面源制备方法和一种β平面源“,授权公告号CN112967830B,申请日期为2021年2月。
专利摘要显示,本发明公开了一种β平面源制备方法和一种β平面源。制备方法包括:对金属托片进行氧化处理,形成氧化膜;使用放射性料液填充所述金属托片的氧化膜,令所述放射性料液中的放射性金属离子进入所述氧化膜的孔洞;使用含硅凝胶封闭所述金属托片的氧化膜孔洞,阻止所述放射性金属离子渗出。本申请将金属托片氧化形成氧化膜,利用氧化膜填充放射性料液的方式实现放射性料液的吸附,并且,采用含硅凝胶封闭金属托片的氧化膜孔洞,从而阻止放射性金属离子泄漏,使制得的β平面源放射性粒子吸附牢固,使用效果更佳、寿命更长。
本文源自:金融界
作者:情报员