(原标题:苏大维格(300331.SZ):积极研发高制程掩膜的相关光刻技术)
格隆汇6月25日丨苏大维格(300331.SZ)在互动平台表示,在光刻领域,公司现阶段主要拓展直写光刻、纳米压印光刻和投影扫描光刻技术和产品在光电子、光通信和泛半导体等领域的应用,并积极研发高制程掩膜的相关光刻技术。