一种新型光刻技术，突破EUV极限

（原标题：一种新型光刻技术，突破EUV极限）

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据报道，初创公司Lace Lithography AS（挪威卑尔根）正在开发一种光刻技术，该技术使用向表面发射的原子来定义特征，其分辨率超出了极紫外光刻技术的极限。

Lace Litho 所称的 BEUV 理论上可以实现更精细的特征，支持晶体管的持续小型化并延伸摩尔定律。

该公司由卑尔根大学首席执行官 Bodil Holst 教授和首席技术官 Adria Salvador Palau 于 2023 年 7 月共同创立，后者在卑尔根大学获得博士学位，但目前在西班牙巴塞罗那运营。

传统的 EUV 系统使用 13.5nm 波长的光，通过一系列反射镜和掩模在晶圆上形成图案。原子光刻技术能够实现直接无掩模图案化，其分辨率甚至小于受波长限制的 EUV 系统所能达到的分辨率。

该公司在其网站上声称：“通过使用原子代替光，我们为芯片制造商提供了领先当前技术 15 年的功能，而且成本更低、能耗更低。”

Salvador Palau 和 Holst 教授共同撰写了一篇发表在《物理评论 A》上的论文，题为《利用中性氦原子进行真实尺寸表面映射》。该论文详细介绍了立体氦显微镜的实现和操作。

FabouLACE 是一个由欧盟资助的项目，旨在开发基于色散力掩模的氦原子光刻技术，其预算为 250 万欧元，由欧洲创新委员会提供。该项目启动日期为 2023 年 12 月 1 日，将持续到 2026 年 11 月 30 日。

FabouLACE 采用亚稳态原子和基于色散力的掩模，可实现 2 纳米工艺。欧盟委员会表示，Lace 光刻技术已获授权在 2031 年前将该技术推向市场。与此同时，该技术的性能将由 IMEC 研究机构进行监测和验证。NanoLACE 是欧洲早期的一个研究项目，于 2024 年 12 月 31 日结束。该项目于 2019 年启动，已获得 336 万欧元的资助，其预算为 365 万欧元。

Lace Lithography 于 2023 年 7 月筹集了约 450,000 欧元的种子轮融资，由 Runa Capital、Vsquared Ventures、Future Ventures、欧洲创新委员会、挪威创新局和挪威研究委员会提供支持。

https://www.eenewseurope.com/en/lace-lithography-uses-atoms-to-go-beyond-euvl/

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