从化工材料到光刻机设备 联合化学涉足半导体以寻求“第二增长曲线”突破

（原标题：从化工材料到光刻机设备 联合化学涉足半导体以寻求“第二增长曲线”突破）

联合化学（301209.SZ）在原有传统业务稳固的基础上，持续布局半导体领域作。今年5月公司成立启辰半导体新材料（盘锦）有限公司，近期公司又进一步披露了《关于对外投资暨签订《增资认购协议》《股东协议》的公告》，拟以1.2亿元购买卓光芮科技（上海）有限责任公司（以下简称“卓光芮”）19.3548%股份，本次增资完成后，联合化学成为卓光芮第三大股东。

“刻蚀领先、光刻攻坚”背景下，光刻机领域国产进程持续加速

作为半导体技术之巅，光刻机在整个集成电路光刻是最核心、最复杂的工艺步骤。从当前全球格局来看，荷兰ASML垄断全球85%以上的光刻机市场，尤其EUV光刻机（7nm及以下制程）对中国完全禁运，美国更是联合日、荷等国限制DUV光刻机对华出口。

近年来，我国半导体设备 2024 年国产化率超40%，这个数字背后实则存在着严重的结构失衡问题严重——光刻机、刻蚀机等半导体核心设备国产化率不足 5%，形成了“刻蚀领先、光刻攻坚”的产业格局，足以凸显光刻机国产替代已经成为目前中国半导体产业实现自主可控的核心战略。

在此背景下，我国政府制定并发布了《光刻机产业攻坚行动计划（2025-2030）》，并设定了三个关键目标：首先是在2025年实现28nm工艺的光刻机量产，进而在2030年突破14nm工艺；其次，力争在2025年提升国产光刻机的市场占有率至30%；最后，通过组建“光刻机创新联合体”，有效整合产业链上下游资源。

除政策外，国家还提供前所未有的资金支持，包括2025年提供超过300亿元的专项补贴资金，并对首批次设备给予最高达2000万元的奖励。同时，国家大基金三期也将光刻机纳入重点投资领域，累计注资已超过500亿元。

事实上，目前28nm技术突破与90nm制程量产的双轨并行下，国产光刻机产品正处于国产替代关键阶段，已从“技术验证”迈入“商业放量”阶段。光刻机国产化进程加速，政策红利与市场需求将推动2025年国产化率突破20%，但高端技术、人才储备与国际封锁仍是核心挑战。

卓光芮团队掌握光刻机整机集成实操经验

对于向来重视自主创新及研发投入的联合化学来说，作为油墨有机颜料行业细分龙头，公司近两年在战略方面坚持结构调整为引擎、以产业升级为导向，走“自主创新”和“引进先进技术”相结合的双轮驱动发展模式。在深耕有机颜料领域提升产品竞争力的同时，公司亦同步推进电子化学品领域战略布局。今年5月份，联合化学通过设立半导体新材料领域的公司—启辰半导体新材料（盘锦）有限公司切入电子化学品领域布局光刻胶单体，实现业务的进一步延伸。

联合化学本次1.2亿投资资金用于支持卓光芮研发攻坚及子公司现有光学部件订单交付研制工作。卓光芮今年3月成立于上海，主营业务为投影式曝光设备，目前处于前期投入及研发攻坚阶段。公司在投资者交流中表示，目前卓光芮合计共约200人，其中硕士及以上学历约占百分60%，公司创始人兼技术负责人高安曾在ASML任职，具备国际先进的研发理念。在技术储备及优势方面，上述公司对于曝光设备的16个分系统（一级供应链）均实现自研（运动台部分系统除外），尤其是子公司罡景光学在光学系统方面，具备从系统设计、光学选材、光学装调、光学测试等全流程研发经验，且已经实现产品销售，目前子公司罡景在手订单近1亿元。

谈到联合化学由原颜料行业向电子化学品及光刻领域转型的优势，市场人士分析表示：联合化学深耕颜料行业多年，积累了丰富的精细化工合成、表面处理等经验，与部分电子化学品存在技术协同，与光刻领域亦存在产业延伸。公司通过技术迁移切入电子化学品及光刻等半导体关键细分领域，再逐步向更高端环节拓展，有望形成公司新的利润增长点，为股东创造更大价值。

编辑：高小波

来源：大湾区经济网品牌观察频道