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国林科技(300786.SZ)：半导体专用臭氧系统设备可以应用于光刻胶去除工艺

来源：格隆汇

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2025-08-18 15:01:17

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（原标题：国林科技(300786.SZ)：半导体专用臭氧系统设备可以应用于光刻胶去除工艺）

格隆汇8月18日丨国林科技(300786.SZ)在投资者互动平台表示，光刻胶属于有机物的一种，臭氧主要作用之一就是去除有机物，公司半导体专用臭氧系统设备可以应用于光刻胶去除工艺。

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